Titaanist ja titaanisulamist juhtmed
Puhas titaan on hõbevalge metall, millel on palju suurepäraseid omadusi.Titaani tihedus on 4,54 g/cm3, 43% kergem kui teras ja veidi raskem kui prestiižne kergmetalli magneesium.Kuid mehaaniline tugevus on umbes sama kui teras, kaks korda tugevam kui alumiinium ja viis korda tugevam kui magneesium.Titaan on vastupidav kõrgele temperatuurile ja selle sulamistemperatuur on 1942K, ligi 1000K kõrgem kui kuld ja ligi 500K kõrgem kui teras.
Titaantraat jaguneb: titaantraat, titaanisulamist traat, puhtast titaanist prilltraat, titaanist sirge traat, puhas titaantraat, titaanist keevitustraat, titaanist rippuv traat, titaanketta traat, titaanist hele traat, meditsiiniline titaantraat, titaannikkel traat. .
Titaantraadi tehnilised andmed
A.Titaantraadi tehnilised andmed: φ0,8-φ6,0 mm
B.Prillide titaantraadi tehnilised andmed: φ1,0–6,0 mm spetsiaalne titaantraat
C.Titaantraadi tehnilised andmed: φ0,2–8,0 mm spetsiaalse riputusega
Standard:GB/T, GJB, AWS, ASTM, AMS, JIS
Titaantraadi klass
GR1, GR2, GR3, GR5, GR7, GR9, GR11, GR12, GR16 jne.
Titaantraadi kasutusvaldkonnad
Sõjatööstus, meditsiin, spordikaubad, prillid, kõrvarõngad, peakatted, rippuvad galvaniseerimine, keevitustraat ja muud tööstusharud.
Titaantraadi seisund
Lõõmutusolek (M)
Kuum töö olek (R)
Külm tööasend (Y)
(Lõõmutamine, ultrapõlvkonna testimine)
Titaantraadi pind
Pinna marineerimine või heledamaks muutmine
Titaantraat moodustab süsinikuga kõrgema kõvadusega stabiilse karbiidi.Söestunud kihi kasvu titaani ja süsiniku vahel määrab titaani difusioonikiirus karboniseeritud kihis.
Süsiniku lahustuvus titaanis on väike, moodustades 0,3% 850X juures: ja väheneb umbes 0,1%ni 600 °C juures. B Kuna süsiniku lahustuvus titaanis on madal, saavutatakse pinna kõvenemine põhimõtteliselt ainult titaankarbiidi kihi ja selle teravuse kaudu. kiht allpool.Karburiseerimine peab toimuma hapniku eemaldamise tingimustes, kuna terase karburiseerimiseks tavaliselt kasutatava pulbri pinnakihi kõvadus süsinikmonooksiidi või hapnikku sisaldava süsinikmonooksiidi pinna suhtes on kuni 2700 MPa ja 8500 MPa ning võrgusilma.Seda on lihtne maha koorida.
Saadaval materjali keemiline koostis
Tootlikkus (maksimaalne ja minimaalne tellimuse summa):Piiramatult, vastavalt tellimusele.
Ettevalmistusaeg:Üldine tarneaeg on 30 päeva.See sõltub aga vastavalt tellimuse summast.
Transport:Üldine transpordiviis on meri, lennuk, ekspress, rong, mille valivad kliendid.
Pakkimine:
- Toru otsad tuleb kaitsta plast- või pappkorkidega.
- Kõik liitmikud tuleb otste ja pinna kaitseks pakkida.
- Kõik muud kaubad pakitakse vahtpatjadesse ja nendega seotud plastpakenditesse ja vineerkastidesse.
- Igasugune pakkimiseks kasutatav puit peab olema sobiv, et vältida saastumist kokkupuutel käitlemisseadmetega.
Seevastu hapniku eemaldamise või karburiseerimise tingimustes võib söes karburiseerimisel tekkida õhuke titaankarbiidi kiht.Selle kihi kõvadus on 32OUOMPa, mis on kooskõlas titaankarbiidi kõvadusega.Karburiseeriva kihi sügavus on üldiselt suurem kui nitriidikihi sügavus, kui nitridimist kasutatakse samadel tingimustel.Hapniku rikastamise tingimustes tuleb arvestada hapniku neeldumise mõju kõvenemise sügavusele.Ainult väga õhukese kihi paksuse korral saab süsinikupulbrit vaakumis või argoon-metaani atmosfääris karburiseerida piisava nakketugevuse.Seevastu gaaskarburiseeriva aine kasutamine võib moodustada eriti kõva ja hästi seotud titaankarbiidiga karastatud kihi.Samal ajal tekkis kõvastumise levik temperatuuril vahemikus 950T: kuni 10201:.Kihi paksuse suurenemisega muutub TiC kiht rabedamaks ja kipub ketendama.Et vältida süsiniku sissetungimist TiC-kihti Reane'i lagunemise tõttu, tuleks gaasi karburiseerimine läbi viia inertgaasis koos ettenähtud doosiga umbes 2% Reane'i lisandiga.Madalam pinna kõvadus saadakse metaani karburiseerimisel propaanilisanditega.Kui sidumisjõud on kuni OKPA ja kasutatakse gaasiga karbureeritud propaani, kuigi mõõdetud kõvastunud kihi paksus on väga õhuke, on sellel parim kulumiskindlus.Vesinik neeldub gaaskarburaatoriga, kuid vaakumlõõmutamise ajal tuleb see uuesti eemaldada.
